技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，屬于電容器技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

金屬化薄膜在真空鍍膜機(jī)中完成鍍膜后，形成面積和體積均較大的原料膜，原料膜必須經(jīng)過薄膜分切機(jī)將其分切成若干個(gè)金屬化薄膜條，金屬化薄膜條再收卷制成符合標(biāo)準(zhǔn)的金屬化薄膜卷。

金屬化薄膜分切機(jī)由放卷機(jī)構(gòu)、切割機(jī)構(gòu)、收卷機(jī)構(gòu)、各功能輥組成。其工作原理為：從放卷機(jī)構(gòu)放出的原料膜，經(jīng)張力檢測(cè)輥，賦能輥進(jìn)入切割機(jī)構(gòu)，原料膜經(jīng)分切后形成若干個(gè)金屬化薄膜條，金屬化薄膜條由收卷機(jī)構(gòu)分別收卷成符合標(biāo)準(zhǔn)的金屬化薄膜卷。

現(xiàn)有金屬化薄膜分切機(jī)主要使用金屬輥與金屬化薄膜條中的絕緣層接觸，再利用接地線將金屬化薄膜條上大部分的靜電消除。但是，由于金屬輥只與金屬化薄膜條中的絕緣層接觸，金屬化薄膜條中導(dǎo)電層由于沒有專門的靜電消除裝置，金屬化薄膜條中導(dǎo)電層仍然會(huì)殘留部分靜電。如果再利用帶接地線的金屬輥消除金屬化薄膜條中導(dǎo)電層的靜電，由于金屬化薄膜條中的導(dǎo)電層為鍍鋁層或鍍錫層，金屬化薄膜條中的導(dǎo)電層與金屬輥接觸時(shí)，金屬化薄膜條中的導(dǎo)電層與金屬輥的輥身摩擦，若金屬輥選擇成本較低的普通傳動(dòng)輥，普通傳動(dòng)輥表面粗糙度大，易損傷金屬化薄膜條中的導(dǎo)電層，造成產(chǎn)品質(zhì)量下降；若選用表面粗糙度非常小的鏡面輥，雖然不會(huì)造成金屬化薄膜條中的導(dǎo)電層被劃傷，但是鏡面輥制作成本非常高，并且其維護(hù)保養(yǎng)成本高，不利于市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供了一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，具體技術(shù)方案如下：

一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，用來將原料膜分切成若干個(gè)金屬化薄膜條，金屬化薄膜條包括絕緣層和導(dǎo)電層，所述帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)包括放卷輥、過渡輥、張力調(diào)節(jié)輥、引導(dǎo)輥、賦能輥組、切割機(jī)構(gòu)、靜電消除輥、定速輥、收卷輥，所述靜電消除輥與金屬化薄膜條的絕緣層接觸，靜電消除輥的外部設(shè)置有第一接地線，第一接地線與靜電消除輥的輥軸電氣連接，所述靜電消除輥和定速輥之間設(shè)置有磁輥，磁輥與金屬化薄膜條的絕緣層接觸，金屬化薄膜條的上方設(shè)置有薄膜條和導(dǎo)電板，薄膜條的下端與金屬化薄膜條的導(dǎo)電層接觸，薄膜條的上端與導(dǎo)電板的首端電氣連接，導(dǎo)電板的外部設(shè)置有第二接地線，第二接地線與導(dǎo)電板的尾端電氣連接。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述磁輥包括鐵輥身，鐵輥身的中央設(shè)置轉(zhuǎn)軸，鐵輥身上還設(shè)置有最少四個(gè)圓形安裝孔，安裝孔以轉(zhuǎn)軸為中心在鐵輥身上對(duì)稱分布，安裝孔中設(shè)置有與安裝孔相配合的磁棒。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述磁棒與安裝孔之間的配合為過盈配合。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述薄膜條包括基膜，基膜的上、下表面分別設(shè)置有鐵層。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述基膜的厚度與鐵層的厚度之間的比值為a，0.5≤a≤1。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述薄膜條的厚度與金屬化薄膜條的厚度之間的比值為m，1≤m≤2。

本發(fā)明所述帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)利用靜電消除輥將金屬化薄膜條絕緣層上的靜電消除；利用薄膜條緊貼金屬化薄膜條的導(dǎo)電層，將金屬化薄膜條導(dǎo)電層上的靜電消除，利用磁輥保證薄膜條緊貼金屬化薄膜條的導(dǎo)電層，避免薄膜條被前進(jìn)的金屬化薄膜條甩開。該金屬化薄膜分切機(jī)中的靜電消除裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)備成本低，能夠有效的將金屬化薄膜條上的靜電消除，同時(shí)不損傷金屬化薄膜條的導(dǎo)電層，保證分切后產(chǎn)品的質(zhì)量，實(shí)施效果好，應(yīng)用價(jià)值高。

附圖說明

圖1為本發(fā)明所述帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明所述磁輥結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明所述薄膜條結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

如圖1所示，所述帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，用來將原料膜20分切成若干個(gè)金屬化薄膜條21，金屬化薄膜條21包括絕緣層和導(dǎo)電層，所述帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)包括放卷輥1、過渡輥2、張力調(diào)節(jié)輥3、引導(dǎo)輥4、賦能輥組5、切割機(jī)構(gòu)6、靜電消除輥7、定速輥8、收卷輥9，所述靜電消除輥7與金屬化薄膜條21的絕緣層接觸，靜電消除輥7的外部設(shè)置有第一接地線71，第一接地線71與靜電消除輥7的輥軸電氣連接，所述靜電消除輥7和定速輥8之間設(shè)置有磁輥10，磁輥10與金屬化薄膜條21的絕緣層接觸，金屬化薄膜條21的上方設(shè)置有薄膜條11和導(dǎo)電板12，薄膜條11的下端與金屬化薄膜條21的導(dǎo)電層接觸，薄膜條11的上端與導(dǎo)電板12的首端電氣連接，導(dǎo)電板12的外部設(shè)置有第二接地線13，第二接地線13與導(dǎo)電板12的尾端電氣連接。

放卷輥1放出的原料膜20，依次經(jīng)過過渡輥2、張力調(diào)節(jié)輥3、引導(dǎo)輥4、賦能輥組5，原料膜20被切割機(jī)構(gòu)6分切成若干個(gè)金屬化薄膜條21，金屬化薄膜條21依次經(jīng)過靜電消除輥7、磁輥10、定速輥8后在收卷輥9上收卷形成符合標(biāo)準(zhǔn)的金屬化薄膜卷。張力調(diào)節(jié)輥3具有保證原料膜20在分切過程中不變形，不起皺的作用；賦能輥組5施加在原料膜20的兩面，在傳送過程中，可將存在于原料膜20中的各種導(dǎo)電與半導(dǎo)電雜質(zhì)清除，可有效地提高電容器的質(zhì)量；靜電消除輥7將金屬化薄膜條21絕緣層上的靜電消除；薄膜條11具有導(dǎo)電性，并且薄膜條11還具有磁性，薄膜條11的下端在磁輥10的吸附下始終與金屬化薄膜條21的導(dǎo)電層接觸，薄膜條11、導(dǎo)電板12、第二接地線13具有導(dǎo)電能力，導(dǎo)電板12可選用銅板，金屬化薄膜條21中導(dǎo)電層上的靜電在薄膜條11的引導(dǎo)下被接地消除。金屬化薄膜分切機(jī)的靜電消除裝置包括靜電消除輥7、第一接地線71、磁輥10、薄膜條11、導(dǎo)電板12、第二接地線13，該靜電消除裝置能將金屬化薄膜條上的靜電消除，同時(shí)不損傷金屬化薄膜條的導(dǎo)電層，保證分切后產(chǎn)品的質(zhì)量，該靜電消除裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)備成本低，實(shí)施效果好，應(yīng)用價(jià)值高。

如圖2所示，所述磁輥10包括鐵輥身101，鐵輥身101的中央設(shè)置轉(zhuǎn)軸102，鐵輥身101上還設(shè)置有最少四個(gè)圓形安裝孔，安裝孔以轉(zhuǎn)軸102為中心在鐵輥身101上對(duì)稱分布，安裝孔中設(shè)置有與安裝孔相配合的磁棒103。在磁棒103的作用下，鐵輥身101具有磁力，并且磁棒103在鐵輥身101上的分布均勻；磁棒103在磁力的作用下緊緊吸附在鐵輥身101上，不但安裝方便，而且還不損傷鐵輥身101。為便于安裝，所述磁棒103與安裝孔之間的配合為過盈配合。磁棒103被塞入安裝孔中后在磁力的作用下緊緊吸附在鐵輥身101上，即使磁輥10在轉(zhuǎn)動(dòng)，磁棒103也不易被甩出；磁棒103與鐵輥身101之間的固定方式簡(jiǎn)單，方便拆卸和維修。

如圖3所示，所述薄膜條11包括基膜111，基膜111的上、下表面分別設(shè)置有鐵層112。基膜111可采用聚乙酯，聚丙烯，聚苯乙烯或聚碳酸酯等塑料薄膜，鐵層112可通過電鍍工藝將單質(zhì)鐵鍍?cè)诨?11的上、下表面，鐵層112能被磁輥10吸附，使得鐵層112能緊貼金屬化薄膜條21中導(dǎo)電層。由于基膜111的上、下表面均有鐵層112，不但方便薄膜條11的使用，電鍍控制要求低，電鍍成本不高。所述基膜111的厚度與鐵層112的厚度之間的比值為a，0.5≤a≤1，鐵層112相對(duì)于基膜111來說，鐵層112的厚度越厚，在電鍍鐵層112時(shí)的控制精度以及電鍍難度也就越小，薄膜條11的制作成本就越低；并且鐵層112在緊貼金屬化薄膜條21中導(dǎo)電層時(shí)，鐵層112為電鍍層，表面粗糙度非常小，不會(huì) 損傷金屬化薄膜條21中的導(dǎo)電層。薄膜條11的厚度與金屬化薄膜條21的厚度之間的比值為m，1≤m≤2，薄膜條11的厚度與金屬化薄膜條21的厚度相近，當(dāng)薄膜條11的下端緊貼金屬化薄膜條21的導(dǎo)電層時(shí)，薄膜條11的機(jī)械性能跟金屬化薄膜條21的機(jī)械性能相近，使其能夠輕易的彎曲或者折疊，并且其對(duì)金屬化薄膜條21的導(dǎo)電層不會(huì)造成損壞。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

技術(shù)特征：

1.一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，用來將原料膜（20）分切成若干個(gè)金屬化薄膜條（21），金屬化薄膜條（21）包括絕緣層和導(dǎo)電層，所述帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)包括放卷輥（1）、過渡輥（2）、張力調(diào)節(jié)輥（3）、引導(dǎo)輥（4）、賦能輥組（5）、切割機(jī)構(gòu)（6）、靜電消除輥（7）、定速輥（8）、收卷輥（9），所述靜電消除輥（7）與金屬化薄膜條（21）的絕緣層接觸，靜電消除輥（7）的外部設(shè)置有第一接地線（71），第一接地線（71）與靜電消除輥（7）的輥軸電氣連接，其特征在于：所述靜電消除輥（7）和定速輥（8）之間設(shè)置有磁輥（10），磁輥（10）與金屬化薄膜條（21）的絕緣層接觸，金屬化薄膜條（21）的上方設(shè)置有薄膜條（11）和導(dǎo)電板（12），薄膜條（11）的下端與金屬化薄膜條（21）的導(dǎo)電層接觸，薄膜條（11）的上端與導(dǎo)電板（12）的首端電氣連接，導(dǎo)電板（12）的外部設(shè)置有第二接地線（13），第二接地線（13）與導(dǎo)電板（12）的尾端電氣連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，其特征在于：所述磁輥（10）包括鐵輥身（101），鐵輥身（101）的中央設(shè)置轉(zhuǎn)軸（102），鐵輥身（101）上還設(shè)置有最少四個(gè)圓形安裝孔，安裝孔以轉(zhuǎn)軸（102）為中心在鐵輥身（101）上對(duì)稱分布，安裝孔中設(shè)置有與安裝孔相配合的磁棒（103）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，其特征在于：所述磁棒（103）與安裝孔之間的配合為過盈配合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，其特征在于：所述薄膜條（11）包括基膜（111），基膜（111）的上、下表面分別設(shè)置有鐵層（112）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，其特征在于：所述基膜（111）的厚度與鐵層（112）的厚度之間的比值為a，0.5≤a≤1。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，其特征在于：所述薄膜條（11）的厚度與金屬化薄膜條（21）的厚度之間的比值為m，1≤m≤2。

技術(shù)總結(jié)

本發(fā)明涉及一種帶靜電消除裝置的金屬化薄膜分切機(jī)，包括放卷輥、過渡輥、張力調(diào)節(jié)輥、引導(dǎo)輥、賦能輥組、切割機(jī)構(gòu)、靜電消除輥、定速輥、收卷輥，靜電消除輥和定速輥之間設(shè)置有磁輥，磁輥與金屬化薄膜條的絕緣層接觸，金屬化薄膜條的上方設(shè)置有薄膜條和導(dǎo)電板，薄膜條的下端與金屬化薄膜條的導(dǎo)電層接觸，薄膜條的上端與導(dǎo)電板的首端電氣連接，導(dǎo)電板的外部設(shè)置有第二接地線，第二接地線與導(dǎo)電板的尾端電氣連接。該金屬化薄膜分切機(jī)中的靜電消除裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)備成本低，能夠有效的將金屬化薄膜條上的靜電消除，同時(shí)不損傷金屬化薄膜條的導(dǎo)電層，保證分切后產(chǎn)品的質(zhì)量，實(shí)施效果好，應(yīng)用價(jià)值高。

技術(shù)研發(fā)人員：劉同林

受保護(hù)的技術(shù)使用者：銅陵市超越電子有限公司

文檔號(hào)碼：201610721711

技術(shù)研發(fā)日：2016.08.25

技術(shù)公布日：2016.12.14